Teollisessa puhtaassa titaanissa on erinomainen korroosionkestävyys hapettumisessa ja neutraalissa väliaineissa, ja sitä on käytetty laajasti eri aloilla, kuten petrokemian ja suolan tuotanto. Sitä on raportoitu kirjallisuudessa, Argon kaarihitsausteollisuuden puhtaan titaani -hitsaushitsaus on olemassa sulamisalastan alueella, lämpötilavyöhykkeellä, nämä kaksi organisaation aluetta ja vanhemman materiaaliorganisaatiota ovat hyvin erilaisia, kun taas sulan uima -altaan alue ja lämpötilaa koskeva vyöhyke esiintyy edullisessa korroosioilmiössä. Plasmahitsauksella on korkean energian tiheyden, linjaenergian, tehokkuuden ja niin edelleen etuja, tällä menetelmällä puhdas titaanilevy voi voittaa yhden läpäisevän volframargonin kaarihitsauksen, koska volframin elektrodi sulaa poolista lähemmäksi volframin elektrodin korrosaatiota voi tapahtua, niin että hitsaushitsausrahasat ovat voimassa.
Yrityslevy- ja nauhat -kelatuotantolinjalla, joka käyttää arkin hitsaustekniikkaa titaanikelan tuottamiseksi, joten kylmävalssatuissa kelatuotteissa on useita muodonmuutoshitsejä. Näitä muodonmuutoshitsauksia voidaan käyttää kelan muiden osien kanssa yhdessä kelan normaalin käytön kanssa. Hitsausprosessoinnin ja perusmateriaalin organisaation, Performance Researchin tutkijat, joiden tarkoituksena on tuottaa hitsattujen kelojen tuotantoa vertailun käytön tuottamiseksi.
Kokeellinen materiaali on 3,5 mm paksu teollisuuspuhdas titaanilevy, luokka TA1. Käyttämällä Nertamatic 450 -automaattista plasmahitsauslaitetta, kaksi hehkutettua tilaa puhdasta titaanilevyä, joka on hitsattu kokonaiseen kylmän rullatun levyn arkkiin, mitat ovat 3,5 mm × 1350 mm × 1520 mm. XXH2005-röntgenvirheilmaisinta hitsauksessa hitsauksen jälkeen, että hitsaus on tuhoava virheiden havaitseminen ja metallurginen mikroskooppi perusmateriaalin ja hitsausmikrorakenteen tarkkailemiseksi. Kahden valssausprosessin 1780 mm: n kylmän valssauslaitoksen virheen havaitsemisella ja tarkastamisella: ensimmäinen 43%: n liikkuvuus, levyn paksuus, joka on pienennetty 2 mm: iin, valssattu 680 astetta × 30min\/AC: n hehkutuskäsittely; Toinen 50%: n liikkuvan muodonmuutos, jotta saadaan 1 mm lopputuotteen levylle, rullattiin 650 astetta × 30 minuuttia\/AC: n hehkutuskäsittely.
Kahden valssausprosessin levyn hitsausprosessointialueen röntgenhitsaamaton virheiden havaitseminen; Metallografinen mikrorakenteen havaitseminen kylmän valssatun tilan ja hitsausnäytteiden hehkutetun tilan kahdesta valssausprosessista; Kaksi näytteiden hehkutetun tilan liikkumisprosessia kovuuden ja huoneenlämpöisen mekaanisten ominaisuuksien testiä varten; Metrien käyttö ENT1604 Cuping -testaaja valmiin levyn hehkutetulle tilalle Cuping -testiä varten prosessin suorituskyvyn tutkimiseksi; Parstat -2273 sähkökemiallisen synteesitestin käyttö. 2273 Sähkökemiallinen integroitu testijärjestelmä (referenssielektrodi käyttämällä tyydyttynyttä kalomelielektrodia, apuelektrodia platinaelektrodia käyttämällä, korroosioliuos on 3,5% NaCl -vesiliuosta), anodinen polarisaatiotesti valmiin arkin hehkutetussa tilassa korroosionkestävyyden tutkimiseksi. Testitulokset:
(1) Puhtaan titaanilevyn hitsausplasmahitsauksen ja puhtaan titaanilevyn jälkeen kahden kertaa kylmän muodonmuutoksen ja hehkutuksen jälkeen täyttävät JB\/T 4730.2 -standardin ⅰ vaatimukset.
(2) Kaksi kylmää muodonmuutoslevyn hehkutettua hitsausprosessointialueen raekoko on hiukan pienempi kuin pohjamateriaalin alue, voimakas plastisuus on hiukan parempi, myös Vickers -mikrohardisuus on hiukan korkeampi.
(3) Hehkuttamisen jälkeen kahdella valssausprosessin kylmällä muodonmuutoksella levyn hitsatun saumankäsittelyalueen pidentyminen ei ole paljon erilainen kuin perusmateriaalin, ja kuppiarvo on samanlainen, jolla on vertailukelpoinen prosessin suorituskyky perusmateriaalin kanssa.
(4) Hitsausprosessointivyöhykkeen anodinen polarisaatiokäyttäytyminen ei ole merkittävästi erilainen kuin emolateriaalin, ja näiden kahden korroosionkestävyys 3,5 -prosenttisessa NaCl -vesiliuoksessa on pohjimmiltaan sama.
